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紫外光刻机

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    面议
  • 可售数量:
  • 品牌名称:
  • 所在地:
    北京北京
  • 产品规格:
  • 包装说明:
  • 商品名称:紫外光刻机
  • 自定义分类:半导体
  • 上架时间:2013/3/29 8:42
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产品关键词: 光刻机,紫外光刻机,单面光刻机,

URE-2000系列光刻机

型号:35

一.技术特征——非常适合工厂(效率高,操作傻瓜型,自动型)

和高校教学科研(可靠性好,演示方便)
采用专利技术——积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应和实现均匀照明;
1、采用三爪和球气浮同时找平,无论大片、小片调平精度均高;  
2、具备真空接触曝光、硬接触曝、压力接触曝光,以及接近式曝光四种功能;    
3、自动分离对准间隙和消除曝光间隙,间隙分离可达500μm;  
4、高倍率双目双视场显微镜和19英寸宽屏液晶显示同时观察对准过程,

并提供USB输出;既满足高精度对准,又可用于检测曝光结果,且曝光结果和

方便存储;  
5、电机机构、弹性元件和传感器保证接触曝光压力合适且重复性好;    
7、曝光波长采用纯净365nm,冷光照明(曝光面能量15mW/cm ,温度小于30度);      
8、对准完成,自动消除曝光间隙,无横向漂移且可通过监视器观察;
9、快门可以单独开启,也可以数字设定自动倒计时曝光(设定范围0.1s-9999s);    
10、采用350W进口(德国)直流汞灯,可调节光的能量密度;  
11、汞灯具有高亮度和“待机”两种方式,即曝光时采用高亮度照明,而不曝光

时采用低亮度的“待机”,从而延长了汞灯寿命。      
12、设备外形美观精制,性能非常可靠;
13、上下片、版十分方便,自动化程度很高,操作简便。
二.技术参数  
1、曝光面积:100mm×100mm(可升级6英寸
2、分辨力:0.8-1μm(胶厚2mm的正胶)    
3、对准精度:1μm
4、掩模样片整体运动范围:X:6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、样片尺寸直径15mm--100mm(可适应非标准片或碎片)  
7、厚度0.1mm--6mm(可扩展为15mm)
8、照明均匀性:±3-4%(100mm范围)
9、掩模相对于样片运动行程:  X:±5mm;  Y:±5mm; q: ±6度
10、汞灯功率:350W(直流)
11、曝光波长:365nm
12、曝光能量密度:15mW/cm (420nm以上波长小于0.1mW/cm )
13、曝光方式:定时(到计时方式0.1s—9999s)

产品关键词: 光刻机,紫外光刻机,单面光刻机,
紫外光刻机
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